A galvanizálás területén a szükséges bevonatos fémet az elektrolitban oldják, a bevont fémmátrixot negatív elektródaként, a titán anódot pedig pozitív elektródaként használják, amely egy teljes áramátviteli ciklust alkot. A galvanizáló fürdőben a galvanizálással egyidejűleg végbemenő kémiai reakció az oxigén kicsapódása az anód felületén.
A nem közömbös anódokhoz, például a grafithoz képest a titán anódok előnye, hogy stabil távolságot tartanak fenn a pozitív és negatív elektródák között (az elektródák közötti távolságot) élettartamuk során. A grafit anód fokozatosan feloldódik a használat során, ami az elektródák közötti távolság növekedését eredményezi, míg az inert titán anód stabil feszültséget és termékminőséget biztosíthat. A platinacsoport elemeinek katalitikus jellemzői miatt az elektróda felületén a csereáram-sűrűség értéke nagy, az oxigén kicsapódási túlpotenciálja alacsony, és speciális eljárással finom szerkezetű oxidfilmet készítenek a titán felületén, és az aktív felületet egységnyi elektródafelületre kapjuk, így különösen alkalmas nagy sebességű és nagy áramsűrűségű galvanizáló gyártásra.
A titán anódok és a grafit mellett ólomanódok is használhatók ezen a területen. Amikor azonban az ólomanód feloldódik, reaktánsai negatív hatással lehetnek a környezetre. Ha titán anódokat használnak, ezek a problémák elkerülhetők. Az oxigénfejlődésű titán anód üzemi feszültsége alacsony, ami szintén energiát takarít meg.
A titán anódok használatának másik előnye az újrafelhasználható titán mátrix. Amikor az anódos titán bevonat élettartama eléri a hasznos élettartamát, az eloxált alumíniumfólia a litográfiai nyomdaiparban általánosan használt anyag. Ugyanazon az elven működik, mint a galvanizálási eljárás, vékony fémréteggel az alapfém felületén. Az alumínium anódos állapotba helyezésével az alumínium felülete oxidálódik. Az alumínium eloxálási (oxidációs) folyamata után az alumínium felülete jobban meg tud tapadni a litográfiai nyomdaiparban szükséges fényérzékeny bevonatokhoz.
A galvanizált fémiparban az anódokat különféle szubsztrátumok galvanizálására használják, a kis tételekben történő ékszergyártástól a bevonatos acéllemezek folyamatos nagyüzemi gyártásáig. A vállalat anódtermékei hozzájárultak a bevonat hordozóanyagának diverzifikálásához, és ez a diverzifikáció a vállalat anódtermékeinek diverzifikációjában is megmutatkozik.
1. Alkalmazási területek: elektromos horganyzás, nemesfém bevonat (beleértve az aranyozást, ezüstözést, palládiumozást stb.); Galvanizált kemény króm; Nikkelezés;
Elektrobádogozás (acéllemez ónozás).
2. Bevonat típusa: titán alapú ruténium-iridium, titán alapú irídium-tantál, titán alapú platina
3. Összehasonlítás a hagyományos galvanizáláshoz használt ólomanódok kiválóságával
1) Alacsony résfeszültség és alacsony energiafogyasztás
2) Az elektróda elvesztési aránya kicsi és a mérete stabil
3) Az elektróda jó korrózióállósággal rendelkezik, oldhatatlan és nem szennyezi a fürdőt, így a bevonat teljesítménye megbízhatóbb.
4) A titán anód új anyagokat és szerkezeteket alkalmaz, ami nagymértékben csökkenti a súlyát és megkönnyíti a napi működést
5) Hosszú élettartam, és a mátrix újrafelhasználható, így költséget takaríthat meg
6) Az oxigénfejlődési túlpotenciál körülbelül 0,5 V-tal alacsonyabb, mint az ólomötvözet oldhatatlan anódja, ami csökkenti a tartály feszültségét és az energiafogyasztást.
